A titánhuzal felszíni kezelési technológiájának szénhidrogizáló titán -karbid (TIC) réteget képez a szénatomok diffúziója révén, jelentősen javítva az anyag kopásállóságát és keménységét. Az alábbiakban bemutatjuk a fő módszerek és a technikai kulcsfontosságú pontok részletes összefoglalását:
I. Általános karburizációs módszerek
(I) Szilárd karburizálás
A szilárd carburizálás magában foglalja a szénpor közvetlen érintkezését a titánhuzalral, lehetővé téve a reakció előfordulását egy magas hőmérsékletű vákuumban vagy argon-metán környezetben. Ez a módszer egyszerű és olcsó, de működés közben az oxigéntartalom szigorú ellenőrzését igényli, hogy megakadályozzák az oxidfilmet a szén diffúzió beavatkozásában.
Ii.
A gázkarburizálás metánt vagy propánt használ a karburizáló gázként inert légkörben. Ez a folyamat sűrű és nagyon tapadó TIC réteget képez. A metán keményebb TIC réteget eredményez, míg a propán javítja a kopásállóságot, miközben megőrzi a viszonylag alacsony keménységet.
(Iii) ion karburizálás
Az ionkarburizálás elektromos mezőt használ a szénionok gyorsítására, hogy vákuumban bombázzák a titán huzal felületét, elősegítve a szénatomok mély diffúzióját. Ez a módszer különösen alkalmas komplex formájú munkadarabok feldolgozására, de forrás-elektródot (szén anyag) és kettős tápegységre van szükség az alacsony hőmérsékletű, hatékony karburizálás elérése érdekében.
Iv. Lézeres karburizálás
A lézeres karburizálás nagy energiájú lézert használ a titán huzal felületének lokális melegítéséhez és egy szénforrás befecskendezéséhez, gyors, szelektív edzés eléréséhez. Ez a technológia a nagy pontosság előnyeit kínálja, de a berendezések költsége viszonylag magas.
Ii. Kulcsfontosságú folyamatparaméterek
(I) Hőmérséklet -szabályozás
A hőmérsékleti tartományt 950 és 1020 fok között kell szabályozni. A túl magas hőmérséklet könnyen a TIC réteg törékeny repedését okozhatja, míg a túl alacsony hőmérsékletek nem hatékony szénatom diffúzióhoz vezethetnek, befolyásolva a karburizáló hatást.
(Ii) légköri kezelés
A karburizációs eljárást inert gáz vagy vákuum környezetben kell végrehajtani, hogy megakadályozzák az oxigén zavarását a karburizációs reakcióba, és biztosítsák, hogy a szénatomok simán diffundálhassanak és reagáljanak a titán huzal felületével.
(Iii) Carburizing időtartam
A szénhidrogizáló folyamat általában 2-6 órán át tart, a karburizált réteg vastagsága 50-150 μm. Ha a karburizált réteg túl vastag, akkor hajlamos a pelyhesítésre. Iii. Kezelési hatások és korlátozások
(I) felületi keménység
A karburizálás után a TIC réteg elérheti a 2700-8500 MPa keménységét, a kopásállóság 3-5-szeresére emelkedve, ami jelentősen javítja a titánhuzal teljesítményét.
(Ii) réteg vastagság jellemzői
A karburizált réteg mélysége jobb, mint a nitriding, de a karburizált réteg vastagsága növekszik, a törékenység is növekszik. Ezért a gyakorlati alkalmazásokban egyensúlyba kell hozni a keményítő hatást az anyag szilárdságával.
(Iii) A maradék hidrogén kockázata
A gázkarburizációs eljárás hidrogént vezethet be, amely ezt követő vákuum -lágyítást és dehidrogénezést igényel az anyag tulajdonságaira gyakorolt káros hatások megelőzése érdekében.
Iv. Óvintézkedések
(I) oxigéntartalom megfigyelése
Az oxigén részleges nyomásnak 10⁻³Pa alatt kell lennie; Ellenkező esetben az oxidfilm akadályozza a szénatomok penetrációját, befolyásolva a karburizáló hatást.
(Ii) réteg vastagság optimalizálása
Az ipari alkalmazásokban a karburizált réteg vastagsága nem haladja meg a 100 μm -et a kiegyensúlyozott teljesítmény és megbízhatóság biztosítása érdekében. (3) utófeldolgozási követelmények
A carburizálás után a titánhuzal lassú hűtést vagy oltást igényel a mikroszerkezet stabilizálása és a termikus feszültség által okozott repedések megakadályozása érdekében.
Ezeknek a különféle carburizációs módszereknek a révén a titánhuzal felszíni tulajdonságai jelentősen javulnak, így alkalmassá teszi a nagy kopásállóságot igénylő alkalmazásokra, például az űrrepülésre.
A vállalat büszkélkedhet a vezető hazai titánfeldolgozó gyártósorokkal, ideértve a következőket is:
Német által kimaradt precíziós titáncső gyártósor (éves termelési kapacitás: 30 000 tonna);
Japán-technológiai titánfólia gördülő vonal (vékonyabb-6 μm);
Teljesen automatizált titánrúd folyamatos extrudálási vonal;
Intelligens titánlemez és szalag befejező malom;
Az MES rendszer lehetővé teszi a teljes termelési folyamat digitális irányítását és kezelését, elérve a termékdimenziós pontosságot ± 0,01 μm.
